Li4 V4 Si2 Ge2 O20 · SSBworkflow

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基础信息

化学式: Li4 V4 Si2 Ge2 O20
原文件: mp-766106.cif
原子数: 32
存储: local
大小: 0.0 MB
SHA256: f6b2e6157336d1db276c2474e772ef0b9d2fd85229a15cbc9218b1638e930e8f

元素与晶格

Ge Li O Si V

空间群: Pccm
a / b / c: 4.695 Å / 9.032 Å / 9.11 Å
alpha / beta / gamma: 90 deg / 90 deg / 90 deg
共占位: 否
含 H/水: -

高筛

通过

来源任务: -
采集时间: -
渗流半径: 0.6655 Å
3D 扩散网络: 1.521
扩大 Li 位点: 2.676

ML 预测

来源任务: -
采集时间: -
300K 电导率: 0.001461 mS/cm
log10 电导率: -2.835
运行时间: 1.414e+04 s

AutoNEP 电导率

300K 电导率: -
活化能: -

NEP_PRED

载流子: Li
300K 电导率: -
Sigma*T: -
活化能: -
来源任务: -

自定义性质

打分型

ML预测电导率: 0.001461 mS/cm · ml-pred-latest
对比学习: -0.3793 · 未通过 · production-cutover-20260607

任务历史

暂无任务

softBV / BVPA

暂无 softBV/BVPA 计算

NEB 前处理

迁移通道 NEB